1、
硬质氧化硬度：指膜层之硬度，膜层厚度（Thickness）指Build up和Penetration两部份。T=1/2Build up+1/2Penetration 。硬度之低标准为B.S.5599规定HRC36以上（约HV350）接近底材部份可超过HRC60(HV700)以上。
2、高度电阻性：于20度C 为4Ⅹ10.15欧姆cm2/cm,可作为良好之绝缘体。
3、耐磨性：以Taber Abraser CS-17 1000g 负载，铝合金硬化处理之耐磨性远优于硬铬电镀及其它之硬化钢。
4、抗蚀性：经封孔，盐雾试验（ASTM117规格）超过5000小时无腐蚀现象发生。
5、耐电压（Breakdown Voltage）：达1500VDC以上。
6、耐热性：膜层熔点达2050度C，短时间可保护铝材在高温中免受损害。
7、尺寸精确：膜层厚度一般为50±5μm ,元件单面尺寸约增加25μm，对于较精细公差及特殊厚度要求，需于图面上特别注明。
8、低摩擦系数：磨光后的表面，摩控系数可低至0.095，因此各种军械及民用装备滑轨，均应用此技术。
9、氧化膜结构的多孔性：氧化膜具有多孔的蜂窝状结构，可使膜层对各种有机物、树脂、无机物、染料及油漆等表现出良好的吸附能力，可作为涂镀层的底层，也可将氧化膜染成各种不同的颜色（硬质氧化膜，只可染黑色）提高金属的装饰效果。
